単層分子ドーピング法で導入されたリンと不純物の熱処理挙動の研究

(2013/11/27)
単層分子ドーピング法で導入されたリンと不純物の熱処理挙動の研究
Yasu_Shimizu_nanoscale_2014
3次元アトムプローブ分析技術を用いてシリコン表面近傍に添加されたドーパント(リン)と不純物の拡散分布を調べた。表面近傍に均一にドーピング可能な「単層分子ドーピング法」に着目し、その方法で添加されたリンと不純物の濃度分布を調べた。本研究では、所望のリンのみ拡散することを示した。
Nanoscale
Vol . 6, 706 (2014)

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