第１電子顕微鏡室
電界放出型電子顕微鏡（FE-TEM）
- メーカー
- 日本電子
- 型 式
- JEM-ARM200F
- 分解能
- 走査透過像0.08nm（加速電圧 200keV）
透過顕微鏡像0.19nm（加速電圧 200keV）
0.11nm（加速電圧 200keV、
結像系球面収差補正装置装着時） - 倍率
- 走査透過像200～150,000,000 倍
透過顕微鏡像50～2,000,000 倍
電子銃ショットキー電界放出形電子銃
透過型電子顕微鏡（LaB６-TEM）
- メーカー
- 日本電子
- 型 式
- JEM-2000FXⅡ
- 加速電圧
- 80～200 keV
- 倍率（デジタル表示、フィルム上に記録）
- 標準倍率モード1,200～1,000,000倍 30ステップ
制限視野倍率モード5,000～50,000倍 22ステップ
極低倍率モード(Low MAG)50～1,000倍 14ステップ - 電子回析カメラ長（デジタル表示、フィルム上に記録）
- 制限視野電子回折100～2500mm 15ステップ
高分散電子回折4～80m 14ステップ
プラズマクリーナー
- メーカー
- E.A. Fischione Instruments, Inc.
- 型 式
- Model 1020S
- スペック
- High frequency (13.56 MHz) oscillating field
system coupled
to a quartz and stainless
steel plasma chamber
Ion energies less than 12eV
Compatible with TEM specimen holders for
FEI/Philips, Hitachi,JEOL, Zeiss/LEO,
and Topcon
第２電子顕微鏡室
ＥＳＲ分光分析（電子スピン共鳴）
- メーカー
- 日本電子
- 型 式
- JES-FA300
- 磁場安定度
- 瞬時：1×10-6または0.3μＴ、
長期：5×10-6または1.5μＴ - 磁場均一度
- 1×10-5/effective sample volume
- 磁場掃引時間
- 0.1s～12h
- 磁極間隙
- 75mm
- 磁極径（根元）
- 360mm
- 磁極径（先端）
- 300mm
- 最大磁場強度
- 1.4T
フーリエ変換赤外分光光度計
- メーカー
- 日本分光
- 型 式
- FT/IR-670Plus
- 測定波数範囲
- 7800～350cm-1
- 最高波数分解
- 0.25cm-1
- S/N比
- 25000:1
- 測定温度
- 10K-300K
紫外・可視光吸収分光装置
- メーカー
- 日本分光
- 型 式
- Ｕｂｅｓｔ Ｖ-５７０
- 光 学 系
- ツェルニターナマウント
シングルモノクロダブルビーム方式 - 光源
- 重水素放電管 タングステンヨウ素ランプ
- 光源切り換え波長
- 330～350nmの間で選択可
- 波長範囲
- 190～2500nm
- 波長繰り返し精度
- ±0.1nm
- 波長正確さ
- ±0.3nm
- スペクトルバンド幅
- 0.1、0.2、0.5、1、2、5、10nm
- 迷光
- 0.015%T
第１化学実験室
電解研磨装置
- メーカー
- Struers Inc.
- 型 式
- Tenupol-3、5
- Control unit
- Mains voltageSingle-phase, 100-120V, 50-60 Hz.
Power consumption110-120V / 3.15A
Output0-100V / 0-2A - Polishing unit
- Sizes of original12-21 mm dia., max. 1 mm thick
specimen3 mm dia., max. 0.5 mm thick
2.3 mm dia., max. 0.5 mm thick
３次元アトムプローブ用試料作製電解研磨装置
- メーカー
- （自作）
- 型 式
- （自作）
- 備考
- 直流電源（０－２０Ｖ）
ホット試料を研磨可能（ドラフト内に設置）
昇温脱離試験装置（ＴＤＳ）
- メーカー
- アールデック
- 型 式
- ＴＤＳ－２３－１．６
- 試験温度
- 室温～１０００℃
- 温調
- チノーKP1000
- Ｑｍａｓｓ
- ＭＫＳ
- Ｍｉｃｒｏｖｉｓｉｏｎ plus
- １－６ amu
- Microvision２
- １－１００ amu
- イオン銃
- アールデック製 0.1-3 kV 可変
X,Y 20mm スキャン - 対応試料形状
- Φ3mmＴＥＭディスク、約10×10 mm 板
- 最高到達真空度
- １×１０－６Ｐａ
走査プローブ顕微鏡
- メーカー
- セイコーＥ／Ｇ
- 型 式
- ＳⅡ-ＳＰＡ４００
- AFMモード
- 試料台
- Φ20 mm
- スキャナ2種
- 面内100μm 垂直5μm
面内20μm 垂直1.5μm - 試料形状
- 長辺35mm以下、厚さ8mm以下
第２化学実験室
３次元アトムプローブ
- メーカー
- ＣＡＭＡＣＡ
- 型 式
- ＬＥＡＰ-3000ＸＨＲ
- 仕様
- レーザーパルス補助付、局所電極型
UVレーザーパルスモードおよび電圧パルスモード - 測定温度
- 最低10Kまで
- パルス周波数
- 最大500kHz
走査イオン顕微鏡（ＦＩＢ）シングルビーム
- メーカー
- セイコーEG&G
- 型 式
- ＳⅡ ＳＭＩ２０５０Ｗ
- 仕様
- Ｃデポジション
マイクロサンプリング付属 - イオン加速電圧
- 最大30kV
走査型電子顕微鏡付ＦＩＢ デュアルビーム
- メーカー
- 型 式
- ＦＥＩ Ｑｕａｎｔａ 200 3Ｄ
- 仕様
- 走査型電子顕微鏡付、ＥＢＳＤ付
- SIM加速電圧
- 最大30kV
- SEM加速電圧
- 最大30kV
- 備考
- マニピュレータ付き
C、Ptデポジション可能
ピックアップ用オムニプローブ付き
ジェントルミル
- メーカー
- 日本フィジテック
- 型 式
- IV-5
- イオンエネルギー
- 100～2,000ｅＶ
- フォーカス、バイアス、カソード
- 可変式
- イオン電流
- 50μＡ以上
- レート（Ｓｉ、入射角：30°）
- 2.5μｍ/ｈ＠500ｅＶ
28μｍ/ｈ＠2,000eＶ - 試料サイズ
- 3mmΦメッシュ
- 試料回転機能
- スピード可変
- 試料反復機能
- 0～120°、スピード可変
ビッカース微小硬さ試験機
- メーカー
- 島津製作所
- 型 式
- HMV-2
- 試験力
- 0.098～19.6N自動切換 9種類
- 試験力保持時間
- 5～999秒
- 圧 子
- ダイヤモンドビッカース圧子 対面角136°
- レンズ倍率
- 総合400倍(対物40倍、接眼10倍)
- 有効測定範囲
- 250μm(400倍時)
- 分解能
- 0.01μm(400倍時)
ポジトロン室
陽電子寿命測定装置
- メーカー
- （自作）
- 型 式
- （自作）
- 線源
- 22Na
- カウントレート
- 15/sec
- 測定温度
- 室温
- 時間分解能
- 170ps
陽電子消滅ドップラー広がり測定装置
- メーカー
- （自作）
- 型 式
- （自作）
- 線源
- 22Na
- カウントレート
- 100/sec
- 測定温度
- 室温
- エネルギー分解能
- 1keV
ナノインデンター
- メーカー
- エリオニクス
- 型 式
- ENT-1100a
- 荷重範囲
- 19μN～980mN
- 荷重制御
- 電磁力式制御
- 測定範囲
- 0～20μm
- 測定分解能
- 0.3nm
- 測定方式
- 静電容量変位計
- 最大試料サイズ
- Φ50×3.5mm
- 測定位置決め精度
- ±2μm
- 除振方式
- 高精度ばね防振台（0.5Hz～)
加速器室
エネルギー可変陽電子ビーム
- メーカー
- （自作）
- 型 式
- （自作）
- 陽電子加速電圧
- 0-30kV
- 測定温度
- 10K-300K
- 同時計数ドップラー拡がり測定
- エネルギー分解能～1.1keV
セラミックス棟
角相関室以外は非管理区域 コールド試料のみ
角相関室
陽電子消滅２次元角相関測定装置
- 仕 様
- アンガーカメラ式
- 使用目的
- 微小欠陥・微小析出物の観察
レーザーマーキング室
YAG レーザーマーカー
- 仕 様
- 富士電機：DW５２００
- 使用目的
- 照射試料のマーキング
実験室１
超高温材料試験機・熱処理装置
- 仕 様
- インストロン：10トン
高周波加熱：2000℃まで 2×10-4Pa - 使用目的
- 超高温領域の静的引張・圧縮
3点曲げ試験、真空熱処理
サーボ・パルサー
- 仕 様
- 島津製作所 容量：5トン、77～1000K
- 使用目的
- 静的及び動的引張試験
(引張・3点曲げ試験・破壊靱性試験（K,J試験）
実験室２
高速自動精密研磨機
- 仕 様
- リファインテック
試料ホルダー：最大90mmφ - 使用目的
- 試料の高速研磨
引張圧縮試験機
- 仕 様
- (株)インテスコ 最大：200ｋｇ
- 使用目的
- ミニサイズ専用引張・圧縮
